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用了這么多年的等離子清洗機,對等離子清洗技術都還沒了解透徹
  • 發布日期:2019-12-06      瀏覽次數:42
    •    用了這么多年的等離子清洗機,對等離子清洗技術都還沒了解透徹
        等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態3種狀態存在,但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態存在,如太陽表面的物質和地球大氣中電離層中的物質。這類物質所處的狀態稱為等離子體狀態,又稱為物質的第四態。
        等離子清洗技術起源于20世紀初,隨著高科技產業的快速發展,其應用越來越廣,等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。

      等離子清洗機

        等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。
        隨著科學技術的發展,各種器件越做越精密,那么對于清洗的要求也越來越高,特別是在芯片制造、成像及顯示等領域,如手機攝像頭、晶圓、電容屏、柔性屏等,對于表面微污染物的要求極其高,甚至表面不能殘留納米級的顆粒。由于污染物體積小、成分復雜且通常表面要求不能存在有機殘留,這時等離子清洗機的作用就更能夠體現出來。等離子清洗機所產生的等離子體能夠將有機污染物分子鏈打斷,使分子結構中的元素與基體脫離,脫離后的元素與等離子體中的自由基發生化學反應,進行分子重組,形成無害氣體排出,以達到表面清潔的目的。
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