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等離子體清洗的結構組成
  • 發布日期:2017-04-05      瀏覽次數:461
    • 等離子清洗機的結構組成

      等離子清洗機

        等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
        等離子清洗機的結構主要分為三個大的部分組成,分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個部分做一個陳述: 
      一、控制單元: 
        目前國內使用的等離子清洗機,包括國外進口的,控制單元主要分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。 
         控制單元又分為啷個大的部分:
           1)電源部分:主要電源頻率有三種,分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其中13.56MHz是需要電源匹配器的,而2.45GHz又稱為微波等離子,主要的功能作用,前面已經提到了,這里就不一一介紹了。
           2)系統控制單元:分三種,按鈕控制(半自動、全自動)、電腦控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。 
      二、真空泵: 
         真空泵分為兩種:1)干泵 、2)油泵  
      三、真空腔體: 
          真空腔體主要是分為兩種材質的:1)不銹鋼真空腔體,2)石英腔體。 
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