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等离子体清洗的结构组成
  • 发布日期:2017-04-05      浏览次数:364
    • 等离子清洗机的结构组成

      等离子清洗机

        等离子体清洗的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。
        等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成,分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。就以下三个部分做一个陈述: 
      一、控制单元: 
        目前国内使用的等离子清洗机,包括国外进口的,控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。 
         控制单元又分为啷个大的部分:
           1)电源部分:主要电源频率有三种,分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其中13.56MHz是需要电源匹配器的,而2.45GHz又称为微波等离子,主要的功能作用,前面已经提到了,这里就不一一介绍了。
           2)系统控制单元:分三种,按钮控制(半自动、全自动)、电脑控制、PLC控制(液晶触摸屏控制)。 
      二、真空泵: 
         真空泵分为两种:1)干泵 、2)油泵  
      三、真空腔体: 
          真空腔体主要是分为两种材质的:1)不锈钢真空腔体,2)石英腔体。 
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